用途
•高分子材料表面的官能基付与一粘合性、密着性提高。通 过氧化反应,在表面生成-OH,>C=O,-COOH等官能 基(微量的水分及二氧化碳影响)。
同样在氮气等离子体中,氮原子被吸收在表面中,生
成-NH 2等官能基。
•硅晶圆蚀刻。
•材料表面改性(金属、聚合物、薄膜、啕瓷等)。
•石棉预处理(膜过滤灰化)。
•从电子设备到生化市场。
•低温灰化(高分子材料、煤炭、食品等)。
•使用玻璃和PDMS板粘贴PDMS芯片。
•表面有机物去除。
■特点
• RF为200 W的 输出类型(PR200)。
•由于是尺寸紧凑的台式机,很小的位置都可以安装。
•同步,自动调谐,操作简单(PR200)。
•等离子体反应器(灰化设备)(PR200)。
•同步、自动调谐(PR200)。